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第七章 芳烃

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芳烃的分类 |






第七章 芳烃
第一节 苯
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苯的构造推测 |




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苯的成键情况 |



苯中所有碳、氢原子皆化学等性
sp2



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苯衍生物的命名 |


- -COOH > -SO3H
> (RCO)2O > -COOR’ > -COX > -CONH2 > -CN
> -CHO > RCOR’ > -OH > -NH2
> -OR > -Ar > -R > -X > -NO2 > -NO




母体
特性基团
母体
特性基团
母体
母体
不视作命名中的
特性基团
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单取代苯衍生物的命名 |
- -COOH > -SO3H
> (RCO)2O > -COOR’ > -COX > -CONH2 > -CN
> -CHO > RCOR’ > -OH > -NH2
> -OR > -Ar > -R > -X > -NO2 > -NO


1-甲基苯
硝基苯
氯苯
甲苯
1
2
3
4
5
6
母体
取代基
toluene
nitrobenzene
chlorobenzene
乙烯基苯
styrene
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单取代苯衍生物的命名 |


1-苯基甲醛
苯磺酸
1-苯基乙酮
1
苯甲醛

1
2
苯乙酮
母体
特性基团
特性能团
benzenesulfonic acid
benzaldehyde
acetophenone
- -COOH > -SO3H
> (RCO)2O > -COOR’ > -COX > -CONH2 > -CN
> -CHO > RCOR’ > -OH > -NH2
> -OR > -Ar > -R > -X > -NO2 > -NO
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单取代苯衍生物的命名 |
-Ph:
苯基
-Bn:
苄基
苄氯
苄醇
PhCH2Ph
二苯甲烷
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二取代苯衍生物的命名 |


邻/o-/1,2-
间/m-/1,3-
对/p-/1,4-
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二取代苯衍生物的命名 |


特性基团、母体
复杂取代基
1
2
3
3-羟基苯(-1-)基
1-(3-羟基苯基)甲酸
3-羟基苯(基)甲酸
1
2
3
4
母体
间羟基苯(基)甲酸

特性基团
母体
1
2
3
4
4-甲基苯(-1-)酚
对甲基苯酚
间羟基苯基
- -COOH > -SO3H
> (RCO)2O > -COOR’ > -COX > -CONH2 > -CN
> -CHO > RCOR’ > -OH > -NH2
> -OR > -Ar > -R > -X > -NO2 > -NO
o-methylphenol
1-甲基-4-硝基苯
对硝基甲苯
m-hydroxybenzoic acid
1-methyl
-4-nitrobenzene
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二取代苯衍生物的命名 |


1,2-二甲苯
邻二甲苯
1,4-二氯苯
对二氯苯
苯-1,3-二胺
间苯二胺
- -COOH > -SO3H
> (RCO)2O > -COOR’ > -COX > -CONH2 > -CN
> -CHO > RCOR’ > -OH > -NH2
> -OR > -Ar > -R > -X > -NO2 > -NO
o-dimethylbenzene
p-dichlorobenzene
m-benzenediamine
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多取代苯衍生物的命名 |


主特性
基团
主特性
基团
2-溴-4-羟基苯磺酸
3-氯-5-甲基苯甲酸
1-乙基-2,3-二甲基苯
2-bromo-4-hydroxybenzenesulfonic acid
3-chloro-5-methylbenzoic acid
1-ethyl-2,3-dimethylbenzene
- -COOH > -SO3H
> (RCO)2O > -COOR’ > -COX > -CONH2 > -CN
> -CHO > RCOR’ > -OH > -NH2
> -OR > -Ar > -R > -X > -NO2 > -NO
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苯的亲电取代 |








加成
消除
速控步
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苯的亲电取代 |


混酸
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苯的亲电取代 |


X:Cl、Br
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苯的亲电取代 |




磺酸基常作为苯环上的占位工具
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苯的亲电取代 |



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苯的亲电取代 |




能够产生碳正离子的化合物均可用于傅克烷基化
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苯的亲电取代 |



易发生多取代
反应过程中碳正离子可能重排
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苯的亲电取代 |


酰卤
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苯的亲电取代 |



酰基碳正离子一般不易重排,反应产物固定
傅克酰化亦不易发生多取代
酸酐
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苯的亲电取代 |


串联还原,傅克酰化可用于在芳环上引入烷基
Clemmensen还原
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既有基团对后继亲电取代的影响 |


1
2
2
概率
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既有基团对亲电取代活性的影响 |




硝化相对
反应速率
1
25
103
0.03
10-7
+I
e
-I
+C
:
sp2

<
e
-I
:
+C
>
e
-I
-C
e


速控步
苯环上电子云密度越高,越有利于亲电取代的发生
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既有基团对亲电取代活性的影响 |
-OH、-OR、-NR2 …
+C > -I
+I
-CHO、-COOH、-SO3H、-NO2 …
-C / -I
-N+R3、-N+≡N …
+C < -I (连接电中性碳时)
提供2个电子参与共轭
一般各原子提供0-1个电子参与共轭
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既有基团对亲电取代定位的影响 |



邻对位定位
间位定位
|
邻对位定位基 |
活性影响 |
|
-NR2、-OH |
强致活 |
|
-OR、-NHCOR |
中等致活 |
|
-R、 |
弱致活 |
|
-X、-CH2X |
弱致钝 |
|
间位定位基 |
活性影响 |
|
-N+R3、-NO2、-CF3 |
强致钝 |
|
-CHO、-COR、 |
较强致钝 |
|
既有基团对亲电取代定位的影响 |











邻位
反应
间位
反应
对位
反应




给电子基使该共振式能量下降,中间体稳定性提升
吸电子基使该共振式能量上升,中间体稳定性降低




原子皆满足八隅体规则
稳定性较高
原子皆满足八隅体规则
稳定性较高

卤素虽是致钝基团,但依然是邻对位定位基
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既有基团对亲电取代定位的影响 |
















各基团定位位置一致,后继反应即主要发生于此位置
|
既有基团对亲电取代定位的影响 |






各基团定位位置不同,且均为给(吸)电子基,
则较强给(吸)电子基决定主要反应位置












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既有基团对亲电取代定位的影响 |





各基团定位位置不同,且给/吸电子性质不同
若给电子基给电子能力不弱,则一般由其决定主要反应位置













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既有基团对后继亲电取代的影响 |



引入吸电子基时,反应一般较易控制
引入给电子基时,反应往往不易控制亲电取代进行程度
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定位规则在合成中的应用 |


Cl2/FeCl3
HNO3/H2SO4

(TM)
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定位规则在合成中的应用 |
HNO3/H2SO4
MeCOCl/AlCl3


傅克反应对芳环上电子云密度有要求

(TM)
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定位规则在合成中的应用 |



|
定位规则在合成中的应用 |



硝化前宜先保护氨基
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定位规则在合成中的应用 |


酰化是保护氨基的常见手段
宜事先在乙酰氨基对位占位,
防止硝基进入
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定位规则在合成中的应用 |




保护氨基
对位占位
去除占位
氨基脱保护
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烷基苯侧链的反应 |







常用于制备
苯甲酸
α
侧链α-位连接H时方可被氧化
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烷基苯侧链的反应 |



常用于制备
芳香醛酮
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烷基苯侧链的反应 |



α
Cl·


sp2

Cl2
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LogsX
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